发酵罐CIP新概念,在CO2备压下常温低温CIP清洗与消毒。D3-Top® C2
       一步酸性清洗和D3-Top® XX15消毒结合,使用方便,保护T541镀层。
      • 在二氧化碳气压下进行清洗
      • 低温一步酸洗、代替热碱、缩短清洗时间
      • 去除“泡盖”残留沉积物、防止啤酒石的形成
      • 特别适合于低温、常温杀菌
      • 可重复使用、单耗低

     

 


 

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